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芯光学院-集成电路先进光刻技术与版图设计优化
浏览: 发布日期:2018-09-14

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  芯光学院,是先导院成立的培训业务品牌,面向全国微电子和光电行业领域进行人才培养,致力于为国家核心技术行业提供源源不断的人才储备。我们的目标,是打造西北地区实训基地,让更多进入这个行业的新人能够在培训中提升实操技能。我们拥有近200名国内外专家智库团队,与国内外专业平台联合办学,充分有效了解行业最新技术,提升行业认知,可以为学员提供精准和专业的辅导,打通职场晋升之路。

  2013年7月回国工作,首先作为项目首席科学家主持了国家02重大专项“300mm晶圆匀胶显影设备和光刻工艺研发”(沈阳芯源微电子设备有限公司);在中科院微电子所建立了计算光刻课题组,从事20nm以下技术节点的光源-掩模协同优化(SMO)和光学邻近效应修正(OPC)研究;韦亚一的研究成果被广泛应用于国内FinFET和3D NAND的量产工艺中;2016年7月在科学出版社出版了“超大规模集成电路的先进光刻理论与应用”一书;2017年3月计算光刻课题组升格为计算光刻研发中心,并被北京市授予中关村开放实验室,韦亚一博士任中心和开放实验室主任。

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  韦亚一博士长期从事半导体光刻领域设备、材料和制程研发,先后参与或主持了从180nm一直到10nm节点的光刻工艺研发,具有丰富的先进光刻研发经验,取得了多项核心技术。

  中组部第八批“千人计划”入选者,中国科学院微电子研究所研究员,博士生导师;1998年毕业于德国Stuttgart大学/马普固体研究所,获博士学位,师从诺贝尔物理奖获得者Klaus von Klitzing;先后在美国能源部橡树岭国家实验室、美国英飞凌公司纽约研发中心、美国格罗方德公司纽约研发中心工作;由于在193nm浸没式光刻技术上的开创性贡献,于2009年受SPIE邀请出版专著“Advanced processes for 193nmimmersion lithography”,该书已被美国多所高校和研究机构作为研究生的教材和主要参考书;发表了70篇的专业文献并持有多项美国专利。

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